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3&4英寸圆片晶圆，匀胶片内均匀性：＜1%；匀胶和显影设备是半导体制造和微纳加工领域中的关键设备。匀胶是把光刻胶均匀的涂覆到硅片等基片的表面的过程。显影是把经过曝光部分（正胶）或者未曝光部分（负胶）去除的过程。该类设备在高精度的集成电路制造、mems加工等众多领域发挥着不可或缺的作用，有助于制造出精密复杂的微纳结构。